Revêtements ALD

Le dépôt de couche atomique (ALD) est un type de dépôt chimique en phase vapeur qui crée une couche mince de revêtement d’Al₂O₃, TiO₂, SiO₂ ou HfO₂ en introduisant un réactif gazeux, ou précurseur, dans la chambre de réaction pour déclencher une réaction chimique de surface sur le substrat. Les revêtements ALD résultants sont développés, couche par couche, directement sur des substrats tridimensionnels en un vernis parfait pour assurer une protection optimale contre l’oxydation, l’humidité ou la dégradation.

Revêtements multicouches ALD+Parylène

L’ALD+Parylène combine des revêtements par dépôt de couche atomique à des revêtements polymères de Parylène pour former un revêtement multicouche amélioré aux meilleures propriétés de protection des appareils dans des environnements extrêmes. Combiner la protection du Parylène organique aux vernis ALD inorganiques (c’est-à-dire Al₂O₃, TiO₂, SiO_2, HfO₂) permet de créer une solution de protection robuste en un revêtement ultra-fin. ALD+Parylène confère une conformité 3D aux composants complexes et miniatures et une meilleure protection contre l’eau, la vapeur et les gaz à des niveaux ultra-fins. De plus, le revêtement multicouche possède des propriétés mécaniques exceptionnelles et une excellente biostabilité.

La technologie multicouche ALD+Parylène est générée par un procédé de dépôt hybride unique. Plusieurs couches de revêtement ALD et Parylène sont appliquées d’une manière menant à une augmentation très contrôlée des couches, résultant en des épaisseurs totales allant de 1 à 10 microns.

Retouches des revêtements ALD

Les revêtements ALD résistent aux produits chimiques et aux solvants, ce qui les rend difficiles à retoucher. Si une retouche est nécessaire, des moyens mécaniques pour enlever le revêtement, tels que des matériaux abrasifs ou un laser excimère peuvent être la meilleure solution. Une fois le revêtement retiré et toutes les mises à jour, améliorations ou réparations effectuées sur la technologie, le revêtement peut être réappliqué.